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NF-300H TEOS
PECVD設備

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NF-300H TEOS 設備由拓荊科技承擔了國家十三五重大專項,自主研發,擁有自主知識產權。應用于128層及以上3D NAND閃存芯片的生產??蓪崿FSiO2、SiN(ONON)多層薄膜堆疊結構和Thick TEOS 薄膜,在均勻性、顆粒度、粗糙度、應力及產能等方面實現技術突破,設備性能指標達同類產品水平。


 
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