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NF-300H Astra
12英寸PEALD設備

產品介紹

NF-300H Astra 系列是我公司自主研發的原子層沉積(Atomic Layer Deposition)設備,可配置3個6站的反應腔,其ALD反應腔搭載在高產能的PECVD平臺上,滿足了對設備產能的需求,現已應用于先進的芯片制造及先進封裝(TSV)領域,其工藝廣泛用于多技術節點及更先進制程邏輯芯片以及存儲器芯片制程?,F可提供具有高質量的PEALD,如SiO2、SiN薄膜,并陸續開發金屬氧化物及金屬氮化物等薄膜工藝。



 
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