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PF-300T Altair
12英寸 Thermal ALD設備

產品介紹

PF-300T Altair 系列是我公司自主研發的熱原子層沉積(Thermal Atomic Layer Deposition)設備,以高產能PEALD設備核心技術為基礎,針對金屬薄膜沉積的特殊性,對反應腔模塊及關鍵部件優化設計,實現成本更低,純度更高的金屬薄膜的沉積,可用于沉積AlOx/AlN/SnOx/TiN等多種金屬薄膜材料。在7nm及以下制程中有著廣泛的應用。


 
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